因为光刻机制造工艺不存在科学基础理论的限制，全部都是工程问题，而工程问题就是资源和时间投入够了，一定搞得出来。连航发我们都快搞出来了，光刻机为什么搞不出来？
反过来说，过去我们造不出来，原因不是我们不能造，根源是我们的产业政策：
过去我们的产业政策是与西方国家形成互补，继而形成政治互信，最后达成长期和平：这是我们过去的和平观。但问题是我们高看的西方人：原来他们无法接受我们与他们平起平坐，硬要和我们用实力说话，逼迫我们的产业和他们脱钩。
这样我们不得不在过去产业的空白处发力。
回答上面某些答主说的“高端人才”“流失”问题，我请你们反过来想一个问题，如果国内的产业尚不成气候，而且国家的产业政策不准备发力，而你作为这个产业的人才，你怎么选择？ 如果你想报效国家，正确的选择是什么？去大学和同僚们卷？去研究所和同事们卷？ 毫无疑问，正确的选择是去国外苟，去学习，等时机成熟，发力。
简单来说，中国产业人才的回国率，其实取决于，我们的产业独立程度有多高，以后回来的人只会越来越多，凡是回不来的，只有可能是中国不要的。
再说了，某些高校有留外传统，他们不去国外占领关键岗位，谁去收留大量去国外留学的中国学生？绝大多数出国留学的学生都回来了，总要有留下殿后的吧？
再说了，谁说高端人才毕业必须是清华大学毕业的，歼20研制总师就不是。
回来说说光刻机，光刻机不能急，原因是这是个产业集群，涉及到材料、精密制造和众多环节的工业配合，需要时间沉淀。
此外，这个节骨眼需要低调的。没消息，其实是好消息！
为什么我认为，航发比光刻机难搞。物理学上，流体力学理论方向基础科学理论瓶颈之一，而且是越是高温和高速，越麻烦。从设计、制造到最终应用，除了一点点试验，一点点积累，没有别的好办法，走不了捷径。而航发的研制就会撞到流体力学理论的瓶颈。
但光刻机的研制，据我所知，至少在精密光学与机械加工这方面，没有已知的理论瓶颈，而且我国的工业基础还不错。瓶颈反而在光刻部分，也就是说光刻机造出来，和光刻机好用完全是两回事。所以，光刻制造的真正瓶颈，不是制造这台机器，而是如何嵌入成熟的半导体制造体系。
b站上看过很多大佬谈国家产业规划，意见基本完全一致：
14五期间解决成熟工艺的材料和设备国产化问题，15五在去突进先进制程。
看样子，国家的决策者们头脑清醒，产业政策也很得当，如果还有那么强的执行力，你怀疑不会成功？
ASML公司是全球领先的光刻设备供应商，拥有先进的极紫外光（EUV）光刻技术。目前，ASML公司的EUV光刻机是制造5纳米及以下工艺节点芯片的关键设备。中国的光刻机制造商目前尚未完全掌握EUV技术，这使得中国芯片制造商在高端芯片制造方面仍然依赖进口设备。
然而，中国政府一直在大力支持国产半导体产业的发展，提高自给率。在未来几年里，随着对光刻技术的持续投入和研发，中国国产光刻机可能会逐步提升技术水平，缩小与ASML公司的差距。
总的来说，虽然中国光刻机制造商正在加快发展，但在短期内要完全摆脱对ASML公司的依赖是非常困难的。长期来看，随着技术进步和政府支持，中国光刻机制造商有望逐步提高竞争力，但要实现技术上的领先仍需付出长期努力。