光刻机技术加速突破，美专家：ASML的时代正在结束

Question

如题所述

Answer 1

众所周知，光刻机是生产芯片的关键设备。尽管芯片体积小巧，仅如指甲盖，但内部却蕴含着数以亿计的晶体管线路。光刻机利用极紫外光源等技术，能够轻松完成芯片的生产工作。目前，全球领先的光刻机技术几乎被荷兰ASML公司所垄断。随着市场对芯片需求的不断增长，ASML公司也因此获得了巨大的利润。
ASML公司是光刻机领域的霸主，掌握着许多先进的光刻机生产技术。其生产的EUV光刻机是生产7nm工艺以下芯片的必要设备。凭借EUV光刻机，台积电和三星已经能够实现7nm和5nm芯片的大规模量产。尽管先进的EUV光刻机售价高达10亿，市场需求依然旺盛，供不应求。
然而，我国科技企业向ASML公司预定的EUV光刻机至今未发货，原因在于ASML公司的光刻机核心技术中包含美国技术，因此其发展受到美国的限制。ASML公司甚至在美国的要求下将总部迁至美国。这一限制进一步加剧了对ASML公司EUV光刻机出货的限制。
美国专家表示，ASML的时代正在结束。由于美国多次修改芯片规则，全球芯片市场出现了短缺，这使得各国开始意识到发展半导体产业的重要性。因此，中国、日本、欧盟等国家都在积极发展自主芯片产业链，并加快光刻机技术的突破。
光刻机技术正在加速突破。例如，日本的佳能和尼康重新进入光刻机领域，计划于2023年研发出先进的3D光刻机。俄罗斯也在计划研发先进的光刻机技术，使用比ASML公司EUV光刻机使用的极紫外光源波长更短的X射线。这些技术都可能比ASML公司的技术更为先进。
此外，台积电、三星、苹果等芯片制造商也在加快封装工艺技术的研发，以减少对光刻机的依赖。例如，苹果已经利用重叠技术将两块芯片封装在一起，实现了性能的提升。华为也在研究这一技术，以降低对ASML公司EUV光刻机的依赖。
新的芯片技术和材料也在快速发展，使EUV光刻机的时代逐渐走向终结。当半导体芯片发展达到1nm时，已经逼近物理极限，因此科学家一直在研发新的替代技术和材料。光电芯片已成为许多国家科技团队的研究重点。一旦下一代芯片技术取得突破，依赖于光刻机的半导体芯片将被逐步淘汰。因此，在未来芯片市场上，光刻机的重要性将降低，ASML公司的垄断地位也将受到挑战。正如美国专家所说，ASML的时代正在结束。