弘芯半导体ASML高端光刻机进场,国产14nm工艺何时能用上?

如题所述

弘芯半导体引进ASML高端光刻机,国产14nm工艺新进展

12月22日,武汉弘芯半导体宣布,其制造厂已迎来首台高端光刻机设备的隆重入驻,虽然官方并未透露具体型号,但知情人士透露这是一台价值千万美元级的ASML设备。


弘芯半导体项目堪称武汉半导体产业的重头戏,2018年总投资高达1280亿元,占地636亩,预计能实现年产值600亿元并带动3000个就业机会。项目自2017年起逐步推进,目标聚焦在芯片制造及配套企业的建设。


值得注意的是,前中芯国际独立董事蒋尚义已转投弘芯半导体,担任CEO。他透露弘芯将主要发展逻辑先进工艺和射频特种工艺,未来可能不会涉足7nm及以下的制程,以避免与台积电等老东家竞争。这表明弘芯的定位更倾向于成熟工艺市场,如180nm-28nm之间的技术。


尽管10nm以下的先进工艺不在弘芯的计划之内,但14nm工艺仍然被视为必要。弘芯高层已表示正在研发这一工艺,这意味着如果成功,将成为继中芯国际和华力半导体之后中国第三个掌握14nm晶圆制造能力的厂商。


然而,作为半导体行业的新手,弘芯半导体在项目推进中面临挑战。近期因工程承包纠纷导致土地查封,这迫使量产时间表延至2023年第一季度。尽管面临延误,但弘芯半导体的14nm工艺研发仍值得期待,预示着中国半导体产业在关键工艺上的新突破。

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