为什么集成电路厂房内光刻区域的照明灯光与其他工艺区域不同？对超净室中的洁净程度是如何定义和分级的？

mos器件的缩小比例为什么是0.7？

推荐答案 2013-10-15

为什么集成电路厂房内光刻区域的照明灯光与其他工艺区域不同？
答：光刻是利用一种叫光阻剂的材料通过曝光显影来完成的，这种光阻剂只有在黄色是管线下才不会被曝光，当需要曝光的时候会在一台专门的设备里曝光！

对超净室中的洁净程度是如何定义和分级的？
答：等级分为万级，千级，百级，十级，比如说万级就是1立方空间里要小于等于10000颗尘埃
具体怎么选用那要看工艺要求

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