光刻机十大品牌制造商为：ASML（阿斯麦）、Nikon（尼康）、Canon（佳能）、Ultratech（优必选）、Suss MicroTec（苏斯微技术）、JEOL（日本电子光学研究所）、Vistec（威斯特克）、TopCon（东宝）、Hitachi High-Tech（日立高科）、Kulicke＆Soffa。
1、ASML（阿斯麦）：
ASML是全球最大的光刻机制造商，总部位于荷兰。他们的光刻机产品在芯片制造中占据着主导地位，为全球各大半导体制造商提供先进的光刻技术。
2、Nikon（尼康）：
Nikon是日本的一家知名光刻机制造商，他们的光刻机在高级制程领域具有重要地位。尼康的光刻机产品具有优秀的分辨率和稳定性，适用于多种芯片制造需求。
3、Canon（佳能）：
佳能是另一家来自日本的著名光刻机制造商。他们的产品在低功耗和高亮度芯片制造等领域表现出色，佳能的光刻机具有高精度和高可靠性。
4、Ultratech（优必选）：
Ultratech是一家位于美国的光刻机制造商，专注于高级制程和先进的光刻技术。他们的产品在微纳加工和高分辨率领域有着广泛的应用。
5、Suss MicroTec（苏斯微技术）：
苏斯微技术是一家总部位于德国的半导体设备制造商，他们提供光刻机、接触/投影掩模对准、微纳加工和检测设备等产品。苏斯微技术在MEMS（微机电系统）和先进封装等领域具有专业技术和丰富经验。
6、JEOL（日本电子光学研究所）：
JEOL是一家总部位于日本的科学仪器制造商，他们的光刻机产品被广泛应用于微电子、光电子和光通信等领域。JEOL的光刻机具有高分辨率和高速度的特点。
7、Vistec（威斯特克）：
威斯特克是一家德国公司，专注于电子束光刻技术的研究和开发。他们的光刻机产品提供高分辨率和高精度的制程解决方案，适用于半导体和光学器件制造等行业。
8、TopCon（东宝）：
东宝是一家总部位于日本的电子测量设备和光刻机制造商，他们的光刻机广泛应用于半导体和显示器制造。东宝的光刻机具有高分辨率和高稳定性的特点。
9、Hitachi High-Tech（日立高科）：
日立高科是一家总部位于日本的高科技公司，他们的光刻机产品在半导体和平板显示器制造领域有着广泛应用。日立高科的光刻机具有高精度和高效率。
10、Kulicke＆Soffa：
Kulicke＆Soffa是一家总部位于美国的半导体设备制造商，他们的光刻机产品广泛应用于封装和组装等领域。Kulicke＆Soffa的光刻机具有高精度和高可靠性的特点。
以上内容参考：百度百科-荷兰ASML公司
以上内容参考：百度百科-尼康