第1个回答 2024-05-30
上海微电子装备有限公司是中国最大的光刻机生产厂家之一，目前该公司已量产最先进的SSA600/20系列光刻机，该系列光刻机依旧采用193nm ArF光源技术，能够满足90nm芯片的制造需求。上海微电子在低端光刻机设备领域占据了国内近80%的市场份额。据国内官方媒体报道，上海微电子计划在明年完成下一代28nm工艺节点的浸润式光刻机的量产交货，这预示着国产光刻机设备即将引发一场中国替代潮，上海微电子在技术上的重大突破，预示着其未来发展潜力巨大。
上海微电子装备有限公司位于张江高科技园区，周边聚集了国家集成电路产业基地、国家半导体照明产业基地和国家863信息安全成果产业化（东部）基地等多个国家级基地。公司成立于2002年，专注于大规模工业生产的投影光刻机的研发、生产、销售与服务。公司产品广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造领域。虽然我国光刻机厂家在发展上相对西方国家稍显落后，但未来前景光明。
光刻机是制造芯片的核心装备，主要通过类似照片冲印的技术，将掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机品牌众多，根据采用的技术路线不同，可以分为几类：高端的投影式光刻机，分辨率通常在几纳米至几微米之间，被誉为世界上最精密的仪器；接触式或接近式光刻机，主要用于生产线和研发；根据操作的简便性，光刻机可以分为手动、半自动和全自动三种。
制造高精度的对准系统需要近乎完美的精密机械工艺，这是国产光刻机目前难以企及的技术难点之一。许多美国德国品牌光刻机具有特殊专利的机械工艺设计。对准系统的另一个技术难题是对准显微镜，为了增强显微镜的视场，许多高端光刻机采用了LED照明。对准系统通常由两套调焦功能的显微镜组成，主要用于将掩模和样片的对准标记放大并成像于监视器上。