我国目前连一台euv光刻机都没有，即使是图纸也没有。
EUV光刻机是半导体制造中的核心设备，它使用极紫外光技术进行微细加工，能够实现芯片制造的高精度和高速度。然而，全球EUV光刻机市场一直被荷兰ASML公司垄断，而中国EUV光刻机如何则备受关注。
目前，ASML公司所在的荷兰政府以及美国政府均在对EUV光刻机的出口进行严格的管制，而EUV光刻机是制造芯片的必要设备之一，中国的半导体产业将会面临供应链断裂的风险。
面对这一局面，中国政府已经出台了一系列的政策，支持国内的半导体产业发展。中国正在积极推进自主创新，加大投入力度，建设自主可控的芯片生态系统。目前，中国的一些芯片制造企业也在积极研发EUV光刻机，以期实现国产化。
性能指标：
光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。片台和掩模夹是根据不同的样片和掩模尺寸而进行设计的。
分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。
对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。
以上内容参考：百度百科—光刻机
——2021年中国光刻机行业进出口贸易市场现状分析 进口占主导地位、日本和荷兰为主要进口地
中国光刻机行业主要上市公司：芯源微(688037)、华特气体(688268)等。
本文核心数据：光刻机进口量、光刻机出口量、光刻机进出口规模等
1、国内光刻机需求高度依赖进口
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备，也是光刻胶材料研发的重要设备。由于光刻机是技术壁垒极高的产品，受技术限制，我国光刻机需求高度依赖进口，数据显示，2020年，我国光刻机行业的进出口总额为19.5亿美元，而贸易逆差达17.59亿美元。
2、光刻机进口量总体增长、主要从日本、荷兰进口
在进口贸易方面，数据显示，2017-2020年，我国光刻机进口数量和进口金额均先将后升。2020年，进口数量为239台，进口金额为18.55亿美元;2021年1-7月，进口数量和金额分别为248台、6.7亿美元，均超过了2020年全年水平。
从进口来源地来看，2020年，我国从日本进口的光刻机数量最多，达128台，但从进口金额来看，我国从荷兰进口的光刻机金额最多，占进口总额的89%，这主要是由于全球光刻机市场主要有三大企业占领，分别是荷兰ASML、日本的尼康和佳能，其中荷兰ASML在高端光刻机市场占绝对龙头地位。
从进口企业注册地来看，2020年，江苏省、上海市进口的光刻机数量最多，分别为70台和67台，主要因为这两个省市拥有较多的芯片制造企业，而光刻机是芯片制造的核心设备。
3、2020年上海市出口的光刻机数量最多
在出口贸易方面，数据显示，2017-2020年，我国光刻机出口数量和出口金额均先升后降。2020年，出口数量为39台，出口金额为9551.54万美元;2021年1-7月，出口数量和金额分别为20台、1648.9万美元。
从出口企业注册地来看，2020年，我国出口的39台光刻机中，有28台是由上海市企业出口，该市有我国本土光刻机的领先企业-上海微电子和芯源微。
以上数据参考前瞻产业研究院《中国光刻机行业市场前瞻与投资战略规划分析报告》。