光刻机对芯片制作有什么作用？

Question

如题所述

Answer 1

1. 中国的光刻机技术已经取得了显著进步，目前能够实现22纳米的制造精度。
2. 在上海微电子装备公司取得技术突破之前，中国国产光刻机的主要制造能力停留在90纳米级别。
3. 此次从90纳米直接跃升至22纳米的技术进步，表明中国在光刻机制造的关键核心技术上已经实现了自主可控。
4. 掌握核心技术的重要性不言而喻，一旦突破关键领域，中国高端光刻机的研发速度有望加快。
5. 国产光刻机的突破意味着中国芯片产业正在逐步崛起，摆脱了对外部技术的依赖。
6. 高端投影式光刻机分为步进投影和扫描投影两种类型，分辨率可以达到7纳米至几微米，是世界上最精密的仪器之一。
7. 这些高端光刻机的制造难度极大，全球范围内只有少数几家厂商具备生产能力。