采用地膜覆盖栽培技术可以有明显的增温保温效果，非常有利于种植后辣椒根系的恢复，对辣椒的生长有很大的促进作用，使植株的地上部分生长早，生长快，在高温季节到来之前就把垄合上，垄合上后阳光不能直接到达地面，保护辣椒根系，避免炎热天气对辣椒的危害。土壤水分的保持和改善由于地膜的气密性强，可以将土壤与大气隔离，有效减少土壤水分的蒸发，长期保持土壤水分的稳定和湿润，促进作物对水分的吸收，有利于植物根系和地上部分的生长发育。
改善土壤结构地膜覆盖具有良好的增温保温效果，具有明显的增加和保持土壤水分的作用，加快了土壤有机质的分解速度，降低了土壤容重，明显增加了土壤孔隙度，能有效改善土壤理化性质；而且地膜覆盖技术通常与高畦栽培或垄作相结合，垄面土壤不会因降雨或浇水而变硬，土壤疏松，有利于辣椒的生长发育。土壤结构改善后，非常有利于土壤生物的活动，可以进一步加速土壤有机质的分解，明显提高土壤养分的盐分。
每667平方米播种量约为150克。播种和育苗管理当土壤温度上升到16℃左右，气温在20℃以上时，即可播种。每1m2苗床播种50g左右。播种后用塑料薄膜覆盖保暖保湿，一般需要5~7天才能发芽。出苗后揭膜，降低温度和湿度。幼苗长到两片叶子一颗心就可以分了，分好的幼苗移入营养钵，每两个幼苗一个。苗点间距8cm×10cm。当幼苗长到2~3片真叶时，就是花芽分化期。为了促进开花和降低结果节位，应提供适当的冷却和8~10小时的短日照。
青椒覆膜栽培技术在这里，本田选择和种植选择合适的地块由于不适合地膜覆盖后追肥，地膜种植青椒的土地要求土壤疏松，透气性好，有机质含量高，施用有机肥，以满足青椒的肥料需求。种植前，将土地做成小块高的地块，用塑料薄膜覆盖，以增加烤好的土地的温度，等待种植。应选择地势高、排灌方便、种植3年以上无青椒的地块。适当的种植种植时期因地而异，但小高畦地膜覆盖栽培必须在晚霜期后种植，否则青椒会结霜；用于沟播、地膜覆盖栽培等。先用塑料薄膜覆盖地面再种植的可以在霜冻种植，但花期要求在霜冻后期之后，以保证座果，否则会延误辣椒采摘期或容易减产。
- 整地 ，所选地块要土层深厚、肥沃、疏松、排水良好，PH值在6.2-7.2的微酸性和中性土壤，在经过深翻炕土的基础上，在定植前10-15天，进行充分芡土整细，清除地里的残渣枯枝及其它杂物。栽植密度 ，根据品种不同栽植密度有差别，植株生长旺盛，较开展的品种栽稀一点，反之则应栽密一点。合理施肥 ，根据土壤肥力差异，进行合理配方施肥 。