smee光刻机多少纳米

Question

如题所述

Answer 1

smee光刻机28纳米。
据媒体报道，上海微电子装备（SMEE）股份有限公司创新技术，在之前90nm的基础上，宣布在2021年至2022年交付国产第一台28nm的immersion式光刻机。
虽然与当前主流荷兰的7nm芯片制备工艺还有大的差距，但也标志着国产光刻机的飞跃进步，在逐渐减少与荷兰ASML公司差距。
光刻机是一个由几万个精密零件、几百个执行器传感器、千万行代码组成的超复杂思维系统，它的内部运动精度误差不超过一根头发丝的千分之一。以光刻机为代表的产品主要应用于四大领域，芯片制造、芯片先进封装、LED制造、下一代显示屏制造。