综述:光刻机。
造光刻机的难度确实要比原子弹还要大,并不是原理技术有多么难,而是我们的工艺水平达不到。一台光刻机几乎集合了10万个零部件,要知道我们的一台汽车也不过5000个零部件,而且每个零件都是精密的零器件,比如德国蔡司的镜头,几乎只有它一家能够生产,纯手工打磨。
目前光刻机的精度几乎接近原子的直径0.1纳米,光刻机每移动1厘米,控制纳米精度,相当于上千公里范围内控制一个银针,可见难度之大。
光刻机:
光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
以上内容参考 百度百科-光刻机