光刻机是如今我们芯片发展的一大重要的制约因素，即便现在我们有了两纳米的芯片研发进展，但是光刻机却仍然还是一个非常棘手的问题。
芯片自主研发迫在眉睫
去年美国对我国的相关企业进行了芯片制裁，拒绝为我国的企业提供芯片之后，华为第一时间站了出来，推出了华为研发多年的麒麟系列芯片。虽然有华为的芯片出来救急，但是国内的许多产业也因此感到了非常大的危机感，纷纷开始投入芯片研发的阵营之中。
而经过这一年多来的全力发展我国的国产芯片发展之路，真真是一波三折，先是要躲过美国的阻挠，又遇到了先进高端光客机这个难关，目前我国的中科院提出了首创二纳米芯片的关键技术，这一技术是利用垂直纳米环栅晶体管生产出来的，是国际公认的二纳米芯片制作领域关键技术。
芯片未来发展离不开高端光刻机
如今我国虽然能够独立将它研制出来，意味着我国在芯片领域生产中站于领先地位，但是当相关专家在将研究成果进行总结，并且在杂志上发表申请专利之后，中科院的专家们仍然还是将核心问题放在光刻机的研发上面，经过专家们的初步规划，我们将在2024年正式实现了纳米芯片的量产，并且通过现实运用的检验。
专家们希望在未来4年的发展实践中，我国能有更多高端的先进人才愿意加入光刻机的研发之中，创造属于中国人的成就，目前荷兰的asml的公司是光刻机生产领域的王者，也是世界各大芯片产业所依赖的最大对象，此前我国曾经和这间企业签订了订购合同。
自身研发受限，与外企合作受阻
我国在相关的科技领域一直被美国打压了几十年，这导致我国相关领域的核心技术始终都无法实现突破，特别是作为制造芯片的关键设备光刻机，目前我们所掌握的精度只能够是45纳米级别的，即便是28纳米的研发技术，我们都还在努力的研发之中，由此可见，我们在芯片行业这条路走得非常的艰难，中国目前是全世界芯片消耗最多的国家，我们在芯片领域的投资也已经超过了1.50,000亿。
但目前我国在光客机上的进展却还是非常的微小。我们在18年花了8.2亿天价向荷兰工厂订购的光刻机，由于它们的意外，如今也不知是否能够按时交到我们手上。，这间企业由于意外而导致我国订购的产品没能够及时完工，如今加上美国的干扰，未来我们是否能够与其合作，还是一个未知数，想要突破光刻机的难题，最后还是得依赖我国自己的专家团队。
不需要了，中国科学院也收到了好消息，当世界处于7纳米研发阶段时，中国科学家开发了一种全新的垂直纳米级环形栅极晶体管，它也被认为是下一代2纳米级芯片的关键技术候选。这一研究成果也已在国际微电子器件领域的顶级期刊上发表，并成功获得专利授权，目前，我们在芯片研发方面一直处于世界顶级水平。
有了这一成果，它将大大改善我们在芯片领域的不足，这是一项独特的技术。值得一提的是，台积电也突破了 3 个纳米级环形栅极晶体管，这也意味着中国在芯片领域的制造即将进入一个全新的时代。2NM芯片的制造和生产有望在 2024年投入使用，这可能是中国高科技领域的又一个里程碑，我们将在半导体领域逐渐赶上并超越，不再到处被人操纵。
没有这个关键设备，中芯国际将在制造 7nm芯片的过程中遇到很大的障碍。我们还有机会赶上它吗，然而，据中芯国际称，国内第一条 14 纳米生产线已在上海正式投入使用，并实现了批量生产。下一代 12 纳米芯片技术也将实现，一旦实现能耗，将比 14 纳米降低 20%，性能将提高 10%。
目前，荷兰光刻机已经正常提供给我们，毫无疑问，这是一个明智的选择，这将是双方的双赢局面。我们在这一领域的投资也超过了 1.5万亿，所以我们渴望拥有这样一台高精度的光刻机，这种光刻机有什么困难，最重要的是我们的技术还不够成熟。
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