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中芯国际euv光刻机交付
华为联合中科院研发出
光刻机
可能性分析
答:
还有一个可能性,用美国科学家发明发明的利用空心玻璃毛细管束聚焦X射线的方法聚焦极紫外光,这种方法用在
光刻机
上就不再需要光学镜头。 所以我个人认为,现在研发出8nm光刻机的可能性存在,但是这么快还是让人惊讶,或者对我来说说可信度似乎较低。不过,据说
中芯国际
承担国产芯片需要的设备和材料等等的验证。如果现在8...
国产90纳米
光刻机
可以干什么呢?
答:
可能大家的目光被台积电和ASML(阿斯麦)吸引住了,以为芯片不用5nm工艺制程制造,都不好意思说自己是芯片,没有极紫外(
EUV
)
光刻机
,都不能说自己是芯片制造大厂。90nm国产光刻机是目前我国最先进的光刻机,属于国家重大科技攻关项目。但是,5nm工艺和极紫外光刻机都是高端货好吗,换句话说,全球...
美国传来坏消息,14nm制程或将被限制,华为早已开始部署
答:
国内芯片代工巨头
中芯国际
也被“断粮”,无法采购先进
的EUV光刻机
。近期,美媒又传来消息,美国国会代表Michael Mccaul和参议员Tom Cotton向美国商务部提出了“建议”,要求此前针对华为的“芯片禁令”扩大到14nm制程以下,并且针对所有中国芯片公司。这对于我国芯片产业来说,无疑是“坏消息”!要知道,...
国产90纳米
光刻机
可以干什么?
答:
可能大家的目光被台积电和ASML(阿斯麦)吸引住了,以为芯片不用5nm工艺制程制造,都不好意思说自己是芯片,没有极紫外(
EUV
)
光刻机
,都不能说自己是芯片制造大厂。90nm国产光刻机是目前我国最先进的光刻机,属于国家重大科技攻关项目。但是,5nm工艺和极紫外光刻机都是高端货好吗,换句话说,全球...
为什么国家不能联合国内最先进的企业研发
光刻机
?
答:
国产
光刻机
的“差距”:目前国内技术领先的光刻机研制厂家是上海微电子装备有限公司,可以稳定生产90nm制造工艺的光刻机,相比ASML的7nm制程差距还是比较大,国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。同样正是SMEE推出90nm制程的光刻机后,ASML对
中芯国际
的7nm光刻机订单放行。中国无法购买光刻机的原因...
中国举国之力发展芯片技术,你觉得未来5年内会有大的飞跃吗?
答:
光刻机
、蚀刻机、芯片设计、芯片制造等各方面都在努力攻坚,取得了突破性进展,有的已经打破国外垄断。光刻机领域上海微电子一马当先,刻蚀机领域中微半导体、北方华创双双出击、紫光集团存储
芯
突破……进展:国产刻蚀机打入全球芯片先进制程产业链。光刻机是芯片制造过程中最复杂和最关键的设备,
EUV
技术...
2014年集成电路工艺能达到几纳米
答:
2017年,技术狂人”梁孟松加入
中芯国际
,自此中芯国际在工艺上突飞猛进,并于2018年末,实现了14纳米工艺技术。随后又把良品率从3%提高到95%,中芯国际再次进入发展的快车道。7nm工艺必须要使用
EUV光刻机
目前台积电、三星电子已经进入了3nm时代。至于7nm工艺,造在2018年台积电、三星就突破了。但是三星在...
asmlasml
光刻机
答:
据此推算,中国2022年第1季度从asml购买的光刻机金额大约是22.2亿美元,其中大陆购买的金额大约是13.5亿美元,台湾购买的金额大约是8.7亿美元。只不过大陆所购买的光刻机基本上都是一些中低端光刻机,不可能是
EUV光刻机
,因为目前欧美并不允许asml向中国出口EUV光刻机,比如前几年
中芯国际
向ASML定购的一台EUV光刻机至...
芯片被美国卡脖子,国内半导体什么时候可以追上台积电?
答:
先说原因,主要还是技术壁垒,要知道,大陆半导体基本上落后于台积电三代,现在代表大陆半导体制程的“天花板”
中芯国际
目前在14纳米,而台积电已经开始5纳米量产,并且已经在开发3纳米制程。最关键的是,台积电没有国外的技术限制,可以随时买到ASML最先进
的EUV光刻机
,而大陆半导体用的还是落后DUV光刻机,...
中国国产的
光刻机
最小制程能达到多少?
答:
90纳米。封装光刻机在国内市场已占据不小的份额,这是国产光刻机取得的进步。然而在代表着光刻机技术水平的晶圆制造光刻机方面,上海微装可生产加工90nm工艺制程的光刻机,这是国产光刻机最高水平,而ASML如今已量产7nm工艺制程
EUV光刻机
,两者差距不得不说非常大。光刻机的最小分辨率、生产效率、良...
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