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氢气还原氯化氢硅的方程式条件
氯化硅
和
氢气
反应的
还原
剂是什么?
答:
反应的化学方程式如下:SiCl4+2Al+2H2−>Si+4HCl+2AlCl3
在这个反应中,氯化硅(SiCl4)和氢气(H2)在金属铝的存在下反应,生成硅(Si)、氢氯酸(HCl)和氯化铝(AlCl3)。铝充当了还原剂,将氯化硅还原成了硅。这种反应常用于制备单质硅的工业过程。
...最关键的材料是高纯
硅
.三氯甲硅烷(SiHCl3)
还原
法是当前制备..._百...
答:
反应方程式为:
Al2O3 + 6HCl → 2AlCl3 + 3H2O
。
氯化硅
与
氢气
反应化学
方程式
答:
SiCl4+2H2(高温)Si+4HCl
这是总的
硅
单质及其化合物应用范围很广.三氯硅烷(SiHCl3)
还原
法是目前工业制高...
答:
(3)三氯硅烷(SiHCl3)与氢气(H2)在1357K的高温条件下反应,生成高纯度的硅(Si)和氯化氢(HCl)。反应的化学方程式可以表示为:
SiHCl3 + H2 → Si + 3HCl
。(4)在比较硅(Si)和氯(Cl)的非金属性时,我们可以发现硅的非金属性小于氯。因此,硅的最高价氧化物对应的水化物H2SiO3的酸性...
...
还原
法是当前制备高纯
硅的
主要方法.生产流程
答:
(1)三氯甲硅烷中含有Si、H、Cl三种元素属于化合物;(2)蒸馏可把液体混合物分离,原理是利用混合物各成分的沸点不同;(3)SiHCl3(粗)和
氢气
反应,生成高纯
硅
和
氯化氢气
体的反应物是SiHCl3(粗)和氢气,生成物是硅和氯化氢,反应
条件
是1084℃,所以
方程式
是:SiHCl3+H2 1084℃ . Si+3
HCl
...
氢气
与四
氯化硅
反应生成半导体材料硅和
氯化氢气
体的化学反应
方程式
答:
氢气
与四
氯化硅
反应生成半导体材料硅和
氯化氢气
体的化学反应
方程式
:SiCl4 + 2H2 ===Si +4
HCl
SiO2与H2反应吗
答:
可以反应。工业上用碳在电炉内还原二氧化硅制得粗硅。用
氢气还原
三氯
氢硅
或四
氯化硅
可制得高纯度硅。粗
硅的
制取:SiO2 + 2C ==高温== Si + 2CO(气体)粗硅转变为纯硅:Si + 2Cl2 ==△== SiCl4 SiCl4 + 2H2== 高温==4
HCL
+Si 个人认为,工业上主要是从经济角度考虑而选用先用碳还原...
三氯
氢硅
理化性质
答:
反应
方程式
为:SiHCl3+O2→SiO2+
HCl
+Cl2。此外,它与水反应会生成烟雾和
氯化氢
,与碱性物质反应会释放
氢气
,与碳氢化合物如乙炔和烃反应则会产生有机氯硅烷。在特定
条件
下,如氢化铝锂或氢化硼锂的存在下,三氯
氢硅
可以被
还原
为硅烷。需要注意的是,三氯氢硅在无水状态下对铁和不锈钢不会产生腐蚀,...
三氯硅烷和
氢气
反应为什么不用加沉淀符号
答:
三氯硅烷和
氢气
反应属于氧化
还原
反应,生成离子晶体和
氯化氢气
体,所以不用加沉淀符号。三氯硅烷与氢气反应
方程式
:三
氯化硅
+7氢气=2四氯化硅+6氯化氢。
...高温下
还原
四
氯化硅的
方法制得硅,同时生成
氯化氢
.请回答:(1)该反应...
答:
(1)反应物是四
氯化硅
、
氢气
,生成物是
HCl
和Si,反应
条件
是高温,所以反应
方程式
为SiCl4+2H2 高温 . Si+4HCl,故答案为:SiCl4+2H2 高温 . Si+4HCl;(2)2.8kg=2800g,n(Si)=2800g28g/mol=100mol,设需要氢气体积为x,SiCl4+2H2 高温 . Si+4HCl 44.8L 1mol x 1...
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