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光阻剂 化学成分
光刻胶是什么材料
光刻胶成分
答:
1、光刻胶(photoresist,也作光致抗蚀剂,光阻),
是一种由聚合物树脂(resin)
,光敏化合物(photoactive compound)和溶剂等混合而成的胶状液体,从成份上来讲,都是碳基有机化合物。2、树脂,作为粘合剂的聚合物混合物,决定了光刻胶的机械和化学性能;光敏化合物,决定了光刻胶的光敏感度:当受...
光阻
液对人体的危害
答:
表现在对皮肤和眼睛的刺激。光阻液又称为光阻剂或光刻胶,是光刻工艺的核心材料,
由成膜剂、光敏剂、溶剂和添加剂等主化学物质组成
。长期接触光阻液,会使皮肤出现过敏、红肿等症状,也会对眼睛产生刺激,出现流泪、疼痛等症状。
光刻
化学
01-
光刻胶
,resist
答:
如248nm光刻胶常用聚对羟基苯乙烯及其衍生物为光刻胶主体材料,193nm光刻胶为聚酯环族丙烯酸酯及其共聚物
,EUV光刻胶常用聚酯衍生物和分子玻璃单组分材料等为主体材料。除主体材料外,光刻胶一般还会添加光刻胶溶剂,光致产酸剂,交联剂或其他添加剂等。正负胶的定义 光刻胶根据在显影过程中曝光区域的...
光阻
的特性
答:
作者:
LED小知识光阻液光阻材料简介光阻主要由树脂(resin),感光剂(sensitizer),溶剂(solvent)三种成分混合而成
。光阻种类: 光阻分为正光阻及负光阻两种。1. 正光阻: 光阻本身难溶于显影液,曝光后解离成小分子,形成容易溶于显影液的结构。2. 负光阻: 曝光后形成不容易溶于显影液的结构。一般Array ...
正
光阻剂
是由什么制成的
答:
光阻剂
是一个用在许多工业制程上的光敏材料。像是光刻技术,可以在材料表面刻上一个图案的被覆层。 光阻有两种,正向光阻(positive photoresist)和负向光阻(negative photoresist)。 正向光阻是光阻的一种,其照到光的部分会溶于光阻显影液
Cr铬、ITO氧化铟锡刻蚀
化学
反应式,
光刻胶
脱膜反应式
答:
Cr铬刻蚀
化学
反应式(刻蚀液主要
成分
:硝酸铈铵),ITO氧化铟锡刻蚀化学反应式(刻蚀液:王水),
光刻胶
脱膜反应式(溶液:NMP甲基吡咯烷酮)。能否详细点,跪谢!... Cr铬刻蚀化学反应式(刻蚀液主要成分:硝酸铈铵),ITO氧化铟锡刻蚀化学反应式(刻蚀液:王水),光刻胶脱膜反应式(溶液:NMP甲基吡咯烷酮)。能否详细点,跪谢...
谁知道折射率大于1.5且不与
光刻胶
反应的液体或者溶液,最好是溶于水...
答:
回答:通常是环烷烃类吧,溶于水困难啊,再看看~~
电子束
光刻胶
HSQ能用X射线辐照吗
答:
怎么总有些人明明不懂 还上来答非所问 是炫耀自己的无知吗?正答:HSQ是电子束胶,但也可以紫外曝光;但HSQ精度在5纳米左右,用紫外曝光是浪费了。
光刻胶
导电吗
答:
光刻胶
(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要
成分
组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中,用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时,若采用适当的有选择性的光刻胶 ...
光刻胶
的作用原理和用途
答:
光刻胶
是一大类具有光敏
化学
作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料,是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist,又翻译为抗蚀
剂
、
光阻
等。光刻胶的作用就是作为抗刻蚀层保护衬底表面。光刻胶只是一种形象的说法,因为光刻胶从外观上呈现为胶状液体。光刻胶通常是以薄膜形式...
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